专利名称：一种真空镀膜设备专利类型：发明专利发明人：文洁,何自坚
申请号：CN201480079978.X申请日：20140612公开号：CN106661725A公开日：20170510
摘要：本发明公开了一种真空镀膜设备，该真空镀膜设备包括气相沉积室、支架以及与支架连接的磁性转动组件，支架设置于气相沉积室内且用于放置待镀膜工件，磁性转动组件包括设置于气相沉积室外侧的第一旋转磁体以及设置于气相沉积室内侧的第二旋转磁体，第一旋转磁体与所述第二旋转磁体磁性耦合，第一旋转磁体在同步电机带动下转动，并能够带动第二旋转磁体转动，进而带动支架转动。通过这样的设计，能够避免漏气现象，而且能够对待镀膜工件进行批量真空纳米镀膜，有效提高待镀膜工件真空纳米镀膜的效率以及镀膜效果。
申请人：深圳市大富精工有限公司
地址：518000 广东省深圳市宝安区沙井街道沙一西部工业区第九栋第十栋
国籍：CN
代理机构：深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：李庆波
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