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专利名称：一种光栅及其制备方法、显示装置专利类型：发明专利
发明人：王静,白金超,丁向前,郭会斌申请号：CN201610619592.4申请日：20160729公开号：CN106226853A公开日：20161214
摘要：本发明实施例提供一种光栅及其制备方法、显示装置，涉及显示技术领域，能够减小光栅的厚度。该光栅包括依次堆叠的第一薄膜层和第二薄膜层。第一薄膜层包括交替设置的第一偏光部和第一非偏光部，第二薄膜层包括第二偏光部，第二偏光部的位置至少与第一偏光部的位置相对应，其中，第一偏光部的吸光轴与第二偏光部的吸光轴垂直，以使得第一偏光部与第二偏光部的重叠区域构成光栅的遮光区，相邻两个遮光区之间具有透光区。
申请人：京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
地址：100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
国籍：CN
代理机构：北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人：申健
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