图案形成方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：图案形成方法专利类型：发明专利发明人：三坂章夫

申请号：CN200710096680.1申请日：20030430公开号：CN101075085A公开日：20071121

摘要：一种图案形成方法。其目的在于实现同时精细化空隙图案和线图案或者是空隙图案和密集图案。在透光性基板上设置了对曝光光线具有遮光性的半遮光部分，由上述半遮光部分包围起来且对上述曝光光线具有透光性的开口部分(透光部分)，和位于开口部分周边的移相器(周边部分)。开口部分形成区域的透光性基板表面呈暴露状态。在移相器形成区域的透光性基板上形成下层相位调整膜。半遮光部分形成区域的透光性基板上沉积了下层相位调整膜及上层相位调整膜。下层相位调整膜及上层相位调整膜各自让曝光光线以开口部分为基准反相位状态透过。

申请人：松下电器产业株式会社

地址：日本大阪府

国籍：JP

代理机构：中科专利商标代理有限责任公司

代理人：汪惠民

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