光罩的制作方法

（12）发明专利申请

（21）申请号 CN200910055364.9 （22）申请日 2009.07.24

（71）申请人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司

地址 201203 上海市张江路18号

（10）申请公布号 CN101963752A

（43）申请公布日 2011.02.02

（72）发明人 柳锋;朱振华

（74）专利代理机构 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人 屈蘅

（51）Int.CI

G03F1/00; G03F7/32;

权利要求说明书 说明书 幅图

（54）发明名称

光罩的制作方法

（57）摘要

本发明涉及一种衰减式相位移光罩的制作

方法，包括：提供透明基板，在基板上形成相位偏移层，在相位偏移层上形成光阻层；在光阻层上形成图案化的光刻胶层；以图案化的光刻胶层为掩膜，蚀刻光阻层，形成图案化的光阻层；以图案化的光阻层为掩膜，干法蚀刻相位偏移层；得到相位偏移层的特征尺寸，比较相位偏移层的

特征尺寸值相比预定值的偏小量，采用湿法蚀刻法对相位偏移层进行再蚀刻；去除光阻层，加上透明的保护膜，完成制作。干法蚀刻相位偏移层之后，经过测量发现相位偏移层的特征尺寸比预定值偏小的话，采用湿法蚀刻对相位偏移层进行修正，而不必重新制作光罩，能够达到节约成本的目的。

法律状态

法律状态公告日2011-02-02 2011-03-23 2013-07-10 2015-03-04

法律状态信息

公开

实质审查的生效

专利申请权、专利权的转移 发明专利申请公布后的驳回

法律状态

公开

实质审查的生效

专利申请权、专利权的转移 发明专利申请公布后的驳回

权利要求说明书

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说明书

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