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一种硅片的处理方法和装置[发明专利]

来源:画鸵萌宠网
专利内容由知识产权出版社提供

专利名称:一种硅片的处理方法和装置专利类型:发明专利

发明人:具成旻,崔世勋,李昀泽,白宗权申请号:CN201910092130.5申请日:20190130公开号:CN109759937A公开日:20190517

摘要:本发明提供一种硅片的处理方法和装置,在硅片的处理方法中,将硅片输送盒置于盛有浸没液且处于溢流状态的卸载槽中,硅片输送盒交互面与水平面呈平行状态,硅片输送盒中用于承载硅片的承载面与水平面垂直,在硅片完成最终抛光之后,将硅片以竖直方式装载至硅片输送盒中并使硅片浸没于浸没液中。根据本发明的硅片的处理方法,在硅片完成最终抛光之后,能够将硅片以竖直方式装载至硅片输送盒中并使硅片浸没于浸没液中,避免硅片完成最终抛光后装载至硅片输送盒时该硅片输送盒中的硅片露出,减轻因残留的浆料引起的蚀刻,通过硅片的处理装置能够实现上述的硅片的处理方法,有效减少硅片的二次污染,提高清洗效果。

申请人:西安奕斯伟硅片技术有限公司

地址:710065 陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室

国籍:CN

代理机构:北京银龙知识产权代理有限公司

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