专利名称：银电解设备中的清洗装置专利类型：实用新型专利发明人：姜彩根,姜备军申请号：CN201921759813.3申请日：20191018公开号：CN210657168U公开日：20200602
摘要：本实用新型涉及一种银电解设备中的清洗装置，包括清洗槽和沉淀槽，其中所述清洗槽放置在安装台上，而沉淀槽则安装在安装台一侧的地面上，所述清洗槽内设置有过滤装置，所述过滤装置包括筛板，所述筛板上安装有滤布，所述筛板下方的所述清洗槽上还安装有出液管，所述出液管与所述清洗槽的内部空腔相连通，且所述出液管远离所述清洗槽的一端连接到沉淀槽。本实用新型具有能够对过滤得到的银粉进行清洗回收的效果。
申请人：浙江宏达新材料发展有限公司
地址：312300 浙江省绍兴市杭州湾上虞经济技术开发区
国籍：CN
代理机构：北京维正专利代理有限公司
代理人：黄兴
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