一种对准测量系统及对准方法[发明专利]

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专利内容由知识产权出版社提供

专利名称：一种对准测量系统及对准方法专利类型：发明专利

发明人：忻斌杰,孙建超,李运锋申请号：CN201611075055.4申请日：20161129公开号：CN108121177A公开日：20180605

摘要：本发明公开了一种对准测量系统及对准方法，该系统通过第一光源模块和第二光源模块提供具有不同波长的四种光束，通过光源控制模块控制第一光源模块和第二光源模块中不同光源的开启和关闭，通过成像模块将照射到对准标记上的第一光源模块、第二光源模块发出的光束分别成像在第一参考光栅、第二参考光栅的不同位置上；第一参考光栅和第二参考光栅为四种光束的不同级次衍射光提供不同周期的参考标记；信号采集处理模块采集透过第一参考光栅、第二参考光栅的光强信号并进行处理，以及通过对准操作与管理模块计算对准位置。本发明可以实现对四种波长同时进行测量，获得性能最佳的波长，利用该波长进行该工艺条件下的光刻生产，提高工艺适应性。

申请人：上海微电子装备(集团)股份有限公司

地址：201203 上海市浦东新区张东路1525号

国籍：CN

代理机构：上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)

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